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蚀刻和沉积反应中的主要等离子气体：氩气作为蚀刻和沉积反应中的主要等离子气体，参与到半导体芯片的制造过程中。氩气的使用可以帮助制造用于半导体图案的光刻工艺中的深紫外(DUV)光。金属溅射沉积的非反应性环境提供：氩气也被用于为金属溅射沉积提供非反应性环境。这是因为氩气是一种非常惰性的气体，它可以避免氮的反应性太强，导致金属氮化物的形成。